レーザ直接描畫裝置

■製品特長(zhǎng)
?最小1μmでのパターンニングが可能
?マスクを使用せずに任意のパターンをレジストに露光が可能
?小型な裝置であり、大気中での露光が可能な為、少ない設(shè)置場(chǎng)所の要求條件
?分解能10nmのステージにより高精度な位置決めを?qū)g現(xiàn)

■主なアプリケーション
?磁性薄膜等の任意形狀のパターンニング
?センサ、半導(dǎo)體デバイスの試作
?MEMSデバイスの試作
?オプトエレクトロニクス、LEDの試作
?マイクロ流體デバイスの試作
?マスク作成
?細(xì)胞等の分別用流路作成
?光導(dǎo)波路の作成